Fotografijos filtras - K&F Concept Nano-X 52mm CPL Poliarizacinis Filtras, žema kaina

Įmonės pavadinimas: UAB &#34;VARLE&#34;
Ūkinio subjekto kodas: 302431995
Įmonės adresas: Ukmergės g. 241, LT-07100
Įmonės šalis: Lietuva
El. paštas: info@varle.lt
Pardavėjo tel. nr.: +370 670 95555

MRC CPL K&F Concept "Nano-X" 52 mm poliarizacijos filtras

K&F Concept "Nano-X" CPL filtras turi daugiasluoksnį atsparų padengimą ir titano sluoksnį, užtikrinantį didesnį patvarumą ir šviesos pralaidumą. Jis efektyviai sumažina atspindžius iki 99.9% ir yra suderinamas su 52 mm objektyvo skersmenimis.

Daugiasluoksnis MRC CPL poliarizacijos filtras, užtikrinantis geresnę vaizdo kokybę
Pašalina iki 99.9% poliarizuotos šviesos, mažinant atspindžius
Patvarus magnio-aliuminio rėmas su dvigubu sriegimu, užtikrinantis papildomą universalumą
Lengvai valomas, atsparus vandens ir aliejaus dėmėms

Ypatybės
Produkto tipas	CPL poliarizacijos filtras
Prekės ženklas	K&F Concept
Modelis	Nano-X
Objektyvo skersmuo	52 mm
Specifikacijos
Medžiaga	Japonų AGC optinis stiklas
Padengimas	Daugiasluoksnis atsparus padengimas (MRC) su titano sluoksniu
Šviesos pralaidumas	≥ 45%
Atspindžių sumažinimas	Iki 99.9%
Rėmo medžiaga	Magnio-aliuminio lydinys
Rėmo storis	5.3 mm
Papildoma informacija
Valymas	Lengvai valomas, atsparus vandens ir aliejaus dėmėms
Srieginimas	Dvigubas srieginimas papildomiems priedams

Pastebėjote klaidą prekės aprašyme ar nuotraukų galerijoje? Praneškite mums.

Skaityti daugiau

Skaityti mažiau