MRC CPL K&F Concept "Nano-X" 43 Mm Poliarizacijos Filtras
K&F Concept "Nano-X" CPL filtras turi daugiasluoksnį MRC padengimą ir titano apsaugą, efektyviai mažindamas atspindžius ir leidžiantis 99.9% šviesos poliarizaciją. Jis pagamintas iš aukštos kokybės japonų AGC optinio stiklo ir turi patvarų magnio-aliuminio rėmą su dviguba sriega papildomiems priedams.
Ultražemas atspindžio CPL filtras, gerinantis vaizdo kokybę ir spalvų tikslumą
Pagamintas iš aukštos kokybės japonų AGC optinio stiklo su patvariu magnio-aliuminio rėmu
Efektyviai sumažina atspindžius iki 99.9%, idealiai tinka kraštovaizdžio ir architektūrinei fotografijai
Lengvai valomas ir atsparus vandens bei aliejaus dėmėms, užtikrinantis aiškius, ryškius vaizdus