Fotografijos filtras - K&F Concept Nano-X 49mm CPL MRC Danga 45% Šviesos Perdavimo, modelis - SB8642, žema kaina

Įmonės pavadinimas: UAB &#34;VARLE&#34;
Ūkinio subjekto kodas: 302431995
Įmonės adresas: Ukmergės g. 241, LT-07100
Įmonės šalis: Lietuva
El. paštas: info@varle.lt
Pardavėjo tel. nr.: +370 670 95555

MRC CPL K&F Concept "Nano-X" 49 mm poliarizacinis filtras

K&F Concept "Nano-X" CPL filtras turi daugiasluoksnį MRC padengimą ir titano sluoksnį, užtikrinantį didesnį patvarumą ir 45% šviesos pralaidumą. Jis efektyviai pašalina 99.9% poliarizuotos šviesos ir yra suderinamas su 49 mm objektyvais.

Daugiasluoksnis MRC CPL poliarizacinis filtras, užtikrinantis geresnę vaizdo kokybę
Ultražemas atspindžio nano padengimas, mažinantis akinimą ir gerinantis aiškumą
Pašalina iki 99.9% poliarizuotos šviesos, suteikdamas ryškias spalvas ir kontrastą
Patvarus aliuminio-magnio rėmas su dvigubu sriegimu, užtikrinantis didesnį universalumą

Ypatybės
Produkto tipas	CPL poliarizacinis filtras
Prekės ženklas	K&F Concept
Modelis	Nano-X
Specifikacijos
Skersmuo	49 mm
Rėmo medžiaga	Aliuminio-magnio lydinys
Storis	5.3 mm
Šviesos pralaidumas	≥ 45%
Poliarizuotos šviesos pašalinimas	Iki 99.9%
Techniniai duomenys
Padengimo tipas	Daugiasluoksnis MRC (Multi Resistant Coating)
Antirefleksinis padengimas	Ultražemas atspindžio nano padengimas
Stiklo tipas	Japoniškas AGC optinis stiklas
Papildoma informacija
Naudojimas	Idealiai tinka kraštovaizdžio, architektūros, automobilių ir produktų fotografijai.

Pastebėjote klaidą prekės aprašyme ar nuotraukų galerijoje? Praneškite mums.

Skaityti daugiau

Skaityti mažiau