Fotoaparato Filtras - K&F Concept Nano-X CPL 82mm Multi-Layer MRC Danga, žema kaina

Įmonės pavadinimas: UAB &#34;VARLE&#34;
Ūkinio subjekto kodas: 302431995
Įmonės adresas: Ukmergės g. 241, LT-07100
Įmonės šalis: Lietuva
El. paštas: info@varle.lt
Pardavėjo tel. nr.: +370 670 95555

MRC CPL K&F Concept Nano-X Požeminio Atspindžio Poliarizacijos Filtras 82mm

K&F Concept Nano-X CPL filtras turi daugiasluoksnį MRC padengimą ir titano apsaugą, užtikrinančią patvarumą bei atsparumą vandeniui ir riebalų dėmėms. Jis efektyviai sumažina atspindžius iki 99.9% ir turi šviesos pralaidumą ne mažiau kaip 45%, tinkamas 82mm objektyvams.

Daugiasluoksnis MRC CPL poliarizacijos filtras, gerinantis vaizdo kokybę
Pašalina iki 99.9% poliarizuotos šviesos atspindžių
Patvarus magnio-aliuminio rėmas su dviguba sriegiu, suteikiantis papildomą universalumą
Atsparus vandeniui ir aliejui padengimas, lengvam valymui ir priežiūrai

Ypatybės
Produkto tipas	CPL poliarizacijos filtras
Prekės ženklas	K&F Concept
Modelis	Nano-X MRC CPL
Specifikacijos
Skersmuo	82 mm
Storis	5.3 mm
Šviesos pralaidumas	≥ 45%
Poliarizuotos šviesos sumažinimas	Iki 99.9%
Medžiaga	Japoniškas AGC optinis stiklas, magnio-aliuminio lydinys
Techniniai duomenys
Padengimas	Daugiasluoksnis MRC padengimas su titanu
Rėmo tipas	Dvigubas sriegiu
Atsparumas vandeniui ir aliejui	Taip
Papildoma informacija
Naudojimas	Skirtas kraštovaizdžio ir produktų fotografijai, siekiant pagerinti kontrastą ir spalvų sodrumą.

Pastebėjote klaidą prekės aprašyme ar nuotraukų galerijoje? Praneškite mums.

Skaityti daugiau

Skaityti mažiau