K&F Concept Nano-C HMC CPL – 77 mm – tai apskritas poliarizacinis filtras, kuris padės pašalinti nepageidaujamus atspindžius ir pagerins jūsų nuotraukų kokybę. Daugiasluoksnė HMC danga efektyviai sumažina šviesos atspindžius, užtikrindama švarius ir aiškius kadrus. Dėl ergonomiškos rankenėlės, reguliuojančios poliarizacijos efektą, galite tiksliai pritaikyti filtrą pagal esamus poreikius. Japoniškas optinis stiklas užtikrina puikų šviesos pralaidumą, o plonas 5 mm rėmelis padeda išvengti vinjetavimo efekto. Šis modelis suderinamas su objektyvais, turinčiais 77 mm filtrų tvirtinimo sriegį. Komplekte – apsauginis dėklas. Pagrindinės produkto savybės: poliarizacinis filtras, suderinamas su 77 mm sriegiu, leidžia greitai ir efektyviai atsikratyti nepageidaujamų atspindžių, rankenėlė patogiam poliarizacijos lygio reguliavimui, neslystanti žiedo tekstūra palengvina montavimą ir reguliavimą, kruopščiai sukurta konstrukcija pašalina šviesos prošvaisčius kraštuose, pagamintas iš aukštos kokybės japoniško optinio stiklo, 18 sluoksnių HMC (Hard Multi-Coated) danga, plonas rėmelis (5 mm storio) apsaugo nuo vinjetavimo plačiakampiuose objektyvuose, pagamintas iš lengvo ir patvaraus aliuminio lydinio, komplekte – apsauginis dėklas. Jokių atspindžių! Pamirškite apie erzinančius atspindžius, kurie gali apsunkinti tobulo kadro padarymą, ypač kai kadre matosi stiklo ar vandens paviršius. Apskritas poliarizacinis filtras K&F Concept Nano-C HMC CPL – tai įrankis, kuris padės akimirksniu ir efektyviai atsikratyti nepageidaujamų šviesos atspindžių. Tai taip pat puikus būdas padidinti kontrastą peizažinėje fotografijoje. Pakanka vieno piršto judesio, kad tiksliai pritaikytumėte poliarizacijos efektą pagal savo poreikius ir įgytumėte visišką kontrolę atspindžiams! Patogus valdymas Sukdami filtrą juosiantį žiedą, galite tiksliai kontroliuoti poliarizacijos efektą. Modelis K&F Concept Nano-C HMC CPL leis efektyviai sustiprinti mėlyno dangaus intensyvumą, išryškinti žalumos gylį medžiuose ir lapuose bei sumažinti arba visiškai pašalinti atsispindinčią šviesą. Jūsų nuotraukos įgaus naują kokybę – taps dar išraiškingesnės ir kontrastingesnės. HMC danga HMC reiškia „Hard Multi-Coated" – tai daugiasluoksnė danga, uždėta ant stiklo paviršiaus. Jos tikslas – žymiai pagerinti vaizdo kokybę sumažinant atspindžius, blyksnius ir šviesos atspindžius. Šios technologijos naudojimas abiejose filtro pusėse taip pat padės padidinti nuotraukų kontrastą ir ryškumą. Rinkdamiesi filtrą K&F Concept Nano-C HMC UV gausite dar geresnę fotografijos kokybę, pašalindami visus netobulumus. Aukščiausios kokybės stiklas Apskrito poliarizacinio filtro K&F Concept Nano-C HMC CPL širdis – japoniškas stiklas, kuris dėl savo gamybos preciziškumo ir išskirtinės kokybės garsėja visame pasaulyje. Jis garantuoja ne tik ilgalaikį naudojimą, bet ir puikų šviesos pralaidumą be jokių kompromisų. Daugiasluoksnė danga efektyviai pašalina nepageidaujamus šviesos efektus, todėl kadrai yra švarūs ir aiškūs, o jūsų nuotraukos – dar gražesnės. Nėra vinjetavimo efekto Plonas apskrito poliarizacinio filtro K&F Concept Nano-C HMC CPL rėmelis yra vos 5 mm storio. Dėl to jums nereikia jaudintis dėl vinjetavimo efekto, nesvarbu, su kokiu objektyvu dirbate. Jūsų kadrai išliks švarūs, ryškūs ir be patamsėjimų kraštuose – tiek artinant, tiek plačiuose kadruose. Suderinamumas objektyvai su 77 mm filtrų tvirtinimo sriegiu Specifikacija modelis: apskritas poliarizacinis filtras K&F Concept Nano-C HMC CPL – 77 mm, filtro tipas: poliarizacinis, danga: Hard Multi-Coated (18 sluoksnių), sriegio skersmuo: 77 mm, storis: 5 mm. Komplekto turinys: apskritas poliarizacinis filtras K&F Concept Nano-C HMC CPL – 77 mm, apsauginis dėklas.