Filtras Kf poliarizuojantis filtras Cpl K&f Nano-x Mrc 43 Mm / Kf01.990

Filtr Polaryzacyjny CPL NANO-X PRO MRC Rozmiar filtra 43 mm FILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCI DEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓW FILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMI HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła NANO-X PRO MRC - Nano-powłoki antyrefleksyjne i ochronne Super niski profil typu SLIM (jedyne 5mm grubości) Bardzo solidna i wytrzymała obudowa aluminiowa Magnalium W zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtra MODEL KF01.990 / 43mm Nano X CPL Produkt firmy K&F CONCEPT - bezsporny lider jakości w produkcji filtrów fotograficznych. Firma K&F CONCEPT przedstawia znakomitej jakości, profesjonalne filtry polaryzacyjne CPL. Są to filtry z najwyższej półki, mało jakie filtry dorównują im jakością wykonania i stopniem zaawansowania. Filtr posiada aż kilkanaście nano-powłok nałożonych warstwowo na szło optyczne. Filtr polaryzacyjny to idealny dodatek szczególnie dla fotografii krajobrazowej. Filtr polaryzacyjny zwiększa kontrast zdjęć i nasycenie kolorów. Filtr CPL eliminuje odblaski i odbicia nie tylko z powierzchni szklanych, ale też metalicznych. Dzięki temu istnieje możliwość wykonywania np. zdjęć przez szybę. Filtr polaryzacyjny CPL przepuszcza jedynie światło o polaryzacji liniowej w wybranym kierunku. W wyniku tego filtr częściowo pochłania światło rozproszone w atmosferze, co widać szczególnie w przypadku fotografowania nieba, które staje się ciemniejsze, przy jednoczesnym zachowaniu białego koloru chmur. Filtr CPL umożliwia również znaczną poprawę nasycenia barw powierzchni nieprzezroczystych (np. zieleni roślin) oraz redukcję odbić od powierzchni przezroczystych (np. tafli wody lub szyby). Cechy filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC Wyprodukowany ze szkła optycznego najwyższej jakości, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9% Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć. Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń. Doskonały stosunek jakości do ceny. Filtr CPL NANO-X PRO MRC jest dedykowany do wszystkich aparatów i kamer ze średnicą obiektywu 43mm. Filtr pasuje m.in do aparatów posiadających następujące modele obiektywów Canon EF-M 22MM 2.0 STM RF 50mm F1.8 STM EF-M 32 mm f/1.4 STM EF-M 28mm f/3.5 Macro IS STM Fujifilm XF 35 mm f/2.0 R WR SPECYFIKACJA FILTRA Wykonany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznego Dwustronnie powlekane 18-warstwową powłoką (NANO-X PRO MRC) szkło optyczne Ochronna powłoka hydrofobowa, anty-olejowa, przeciwpyłowa, przeciw-zabrudzeniowa, odporna na zarysowania. Nie zmienia kolorystyki kadru - jest całkowicie neutralny Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM o grubości jedyne 5mm Bardzo solidna i wytrzymała obudowa aluminiowa Magnalium Brak negatywnego wpływu na pracę układu AUTOFOCUS Solidne pudełko ochronne na filtr w zestawie Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM o grubości jedyne 5mm Filtr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Stanową one doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych warunkach Filtr posiada powłoki, które zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń Przykładowe zastosowanie filtru K&F CONCEPT CPL NANO-X PRO MRC Uwaga! Aparaty, obiektywy, statywy i inne akcesoria dodatkowe przedstawione na zdjęciach pełnią jedynie rolę podglądową i nie są przedmiotem sprzedaży.