Filtras K+F poliarizacinis CPL K&F Nano-X MRC 40,5 mm / KF01.989

Poliarizacinis filtras CPL NANO-X PRO MRC Filtro dydis 40,5mm AUKŠČIAUSIOS KOKYBĖS FILTRAS, SKIRTAS PROFESIONALAMS FILTRAS SU INOVATYVIOMIS NANO-DANGOMIS HD - aukšta naudoto optinio stiklo raiška NANO-X PRO MRC - Nano antirefleksinės ir apsauginės dangos Itin žemas SLIM tipo profilis (vos 5mm storio) Labai tvirtas ir patvarus aliuminio korpusas Magnalium Komplekte tvirta filtro laikymo pakuotė MODELIS KF01.989 / 40,5 mm Nano X CPL Produktas K&F CONCEPT - neabejotinas kokybės lyderis fotografinių filtrų gamyboje. Įmonė K&F CONCEPT pristato puikios kokybės profesionalius CPL poliarizacinius filtrus. Tai aukščiausios klasės filtrai, nedaugelis filtrų prilygsta jų atlikimo kokybei ir technologiniam pažangumui. Filtras turi net keliolika nano-dangų, sluoksniais uždėtų ant optinio stiklo. Poliarizacinis filtras – ideali priemonė ypač peizažinei fotografijai. Poliarizacinis filtras padidina nuotraukų kontrastą ir spalvų sodrumą. CPL filtras pašalina akinimą ir atspindžius ne tik nuo stiklo, bet ir metalinių paviršių. Dėl to galima, pvz., fotografuoti pro stiklą. CPL poliarizacinis filtras praleidžia tik tiesinės poliarizacijos šviesą pasirinkta kryptimi. Dėl to filtras iš dalies sugeria atmosferoje išsklaidytą šviesą, o tai ypač matoma fotografuojant dangų, kuris tampa tamsesnis, išlaikant baltą debesų spalvą. CPL filtras taip pat leidžia žymiai pagerinti neperšviečiamų paviršių (pvz., augalų žalumos) spalvų sodrumą bei sumažinti atspindžius nuo peršviečiamų paviršių (pvz., vandens ar stiklo). Filtro K&F CPL NANO-X PRO MRC savybės Pagamintas iš aukščiausios kokybės optinio stiklo, todėl šviesos pralaidumas yra daug didesnis ir siekia daugiau nei 99,9% Filtras turi specialias nano-dangas, užtikrinančias žymų akinimo mažinimą ir nuotraukų kokybės gerinimą. Filtras taip pat padengtas dangomis, pasižyminčiomis dideliu atsparumu įbrėžimams ir mechaniniams pažeidimams. Dangos gerokai palengvina filtrų valymą bei apsaugo nuo per didelio dulkių, žiedadulkių ir kitų teršalų pritraukimo. Puikus kainos ir kokybės santykis. CPL NANO-X PRO MRC filtras skirtas visiems fotoaparatams ir kameroms su 40,5 mm objektyvo skersmeniu. Filtras tinka, be kita ko, šiems fotoaparatams: Nikon 1 V1 / J1 / J2 / V2 / S1 / S2 / AW1 / V3 / J3 / J4 / V4 su NIKKOR 10–30 mm 1:3,5–5,6 VR arba NIKKOR 11–27,5 mm 1:3,5–5,6 objektyvu Pentax Q / Q1 / Q10 / Q7 / Q-S1 su SMC 1:1,9 8,5 mm AL [IF] arba SMC 1:2,8–4,5 5–15 mm ED AF [IL] objektyvu Olympus PEN E-P1 / E-P2 / E-P3 / E-PL1 / E-PL2 / E-PL3 su 14–42 mm 1:3,5–5,6 L ED (fi 40,5 mm) objektyvu Samsung NX300 / NX30 / NX3000 / NX10 / NX20 / NX1000 / NX11 / NX1100 / NX100 / NX2000 su 1:3,5–5,6 20–50 mm II ED objektyvu Sony A5100 / A6000 / A5000 / NEX-5R / NEX-5T / NEX-3N / NEX-6 su E 3,5–5,6/PZ 16–50 OSS objektyvu FILTRO SPECIFIKACIJA Pagamintas iš aukščiausios kokybės japoniško optinio stiklo. Iš abiejų pusių padengtas 18 sluoksnių danga (NANO-X PRO MRC). Apsauginė hidrofobinė, antialiejinė, antidybinė, antiteršalinė, atspari įbrėžimams danga. Nekeičia kadro spalvų – yra visiškai neutralus. Itin plonas ir lengvas SLIM tipo aliuminio rėmelis, vos 5 mm storio. Labai tvirtas ir patvarus aliuminio korpusas Magnalium. Neturi neigiamos įtakos AUTOFOCUS sistemos darbui. Tvirta apsauginė dėžutė filtrui komplekte. Itin plonas ir lengvas SLIM tipo aliuminio rėmelis, vos 5 mm storio. Filtras padengtas dangomis, pasižyminčiomis dideliu atsparumu įbrėžimams ir mechaniniams pažeidimams. Jos puikiai apsaugo filtrą net pačiomis sudėtingiausiomis sąlygomis. Filtras turi dangas, kurios gerokai palengvina filtrų valymą bei apsaugo nuo per didelio dulkių, žiedadulkių ir kitų teršalų pritraukimo. Pavyzdinis K&F CONCEPT CPL NANO-X PRO MRC filtro panaudojimas Dėmesio! Nuotraukose pavaizduoti fotoaparatai, objektyvai, trikojiai ir kiti papildomi aksesuarai yra tik iliustracijai ir nėra pardavimo objektas.